如同研磨一樣,拋光用于去除之前步驟殘留的損傷材料。這可通過使用較細(xì)的研磨顆粒來實(shí)現(xiàn)。拋光可分為兩種不同的工藝
金剛砂拋光
金剛砂是一種可達(dá)到最大材料去除率和最佳平直度的磨料。當(dāng)前沒有哪種磨料可實(shí)現(xiàn)與此相媲美的結(jié)果。由于金剛石的硬度,其可輕松切削所有材料和相位。
在拋光期間,較小的碎屑尺寸有望獲得無劃痕和變形的樣品表面。如果使用的是彈性更好的布料和尺寸更小的顆粒,例如3或1μm,則碎屑尺寸幾乎為零。降低對(duì)樣品施加的力也有助于減少拋光期間產(chǎn)生的碎屑尺寸。
氧化物拋光:
某些材料,尤其是柔軟和易延展的材料,需要使用氧化拋光執(zhí)行最后的拋光,以獲得最佳質(zhì)量。顆粒尺寸約為0.04μm,pH約為9.8的硅膠展現(xiàn)出卓越的拋光效果?;瘜W(xué)活性和精細(xì)、溫和的磨損效果的完美組合可打造出無劃痕、無變形的樣品。
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