研磨和拋光是同一種機(jī)械運(yùn)動(dòng)，原理是一樣的。而對(duì)于表面處理的情況而言，拋光的表面光潔度比研磨要更高一些。其實(shí)拋光液可以說(shuō)是研磨的后道工序，可以在同一臺(tái)平面拋光機(jī)上同時(shí)實(shí)現(xiàn)研磨和拋光。研磨分為粗磨，精磨，拋光則分為粗拋，精拋。很多時(shí)候我們都是三道工序來(lái)進(jìn)行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨，精磨，精拋。有了這三道工序，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當(dāng)高了。

    針對(duì)不同客戶的研磨的不同要求，研磨分為粗磨和精磨2類，有些客戶對(duì)研磨的進(jìn)度并沒(méi)有那么高，對(duì)于粗糙度要求來(lái)說(shuō)只采用粗磨和精磨兩道工序。具體還是要看進(jìn)行磨拋的工件本身質(zhì)量來(lái)說(shuō)，以及客戶要求達(dá)到的質(zhì)量和要求而定。

    研磨和拋光可以在同一臺(tái)平面拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)，但是所用的配置卻不一樣。研磨需要用研磨盤和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤，拋光墊，拋光布，拋光輪等。所用在一臺(tái)平面拋光機(jī)上實(shí)現(xiàn)研磨和拋光時(shí)需要研磨后更換盤，液體等配置。

    綜上所述在研磨的過(guò)程中設(shè)計(jì)到的產(chǎn)品或者輔助配件主要有研磨盤、研磨液、拋光布。

    第一、研磨盤研磨拋光機(jī)的研磨盤主要是由各種金屬粉末熔化后鑄造而成。這些金屬粉末具備一定的韌性和脆性，有很強(qiáng)的磨削能力，能快速地將各種工件表面打磨拋光。研磨盤的材質(zhì)有多種，常見(jiàn)的有鎢鋼、氧化鋁、氧化鈰、合成鐵或銅等。具體使用什么樣的材質(zhì)可以根據(jù)不同的使用條件或者介質(zhì)來(lái)決定。

    金剛石研磨盤：指用于研磨機(jī)上的盤式磨具，由盤體和金剛石磨快組成，金剛石焊接或鑲嵌在盤體上，通過(guò)磨機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)對(duì)工作面實(shí)施平整打磨。

    金剛石研磨盤主要應(yīng)用：在玉石、壽山石、水晶、瑪瑙、工藝品。近年來(lái)已在電子、光電、玻璃制品、電子管、晶體、工藝品、水晶燈飾、精密加工等行業(yè)廣泛使用。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷中東，東南亞、歐洲以及香港、臺(tái)灣等市場(chǎng)。

    第二、研磨液研磨盤不可以單獨(dú)使用在研磨介質(zhì)上面，必須要由研磨液或者拋光液配合使用。研磨液一方面可以降低研磨盤加工時(shí)的工作溫度，另一方面可以起到潤(rùn)滑的作用，不會(huì)給加工件造成損害。研磨液一般有水劑和油劑兩種類型，最簡(jiǎn)單的水劑研磨液可以是簡(jiǎn)單的肥皂水，一般可以自制而成，這種研磨液制作成本非常低，但是沒(méi)有什么防銹能力，所以不太適合研磨金屬制品。而油劑研磨液是按照適當(dāng)?shù)谋壤{(diào)制有機(jī)溶劑而制成的，這種溶劑最大的缺陷就是制作費(fèi)用較高。

    研磨液按其作用機(jī)理分：機(jī)械作用研磨液，化學(xué)機(jī)械作用研磨液。

    機(jī)械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。

    化學(xué)機(jī)械作用的研磨液：化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(ChemicalMechanicalPolishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。

    化學(xué)機(jī)械拋光液，根據(jù)磨料不同的分類：

    二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。

    金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類：

    金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。

    1、單晶金剛石研磨液

    單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對(duì)較低。廣泛適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過(guò)程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。

    2、多晶金剛石研磨液

    多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過(guò)程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷，為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。廣泛用于光學(xué)晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。

    第三、拋光布

    拋光布的使用可以提高拋光盤的效率，同時(shí)也可以對(duì)拋光盤和拋光介質(zhì)起到很好的保護(hù)作用。但是拋光布有一定的使用期限，而且不同規(guī)格的拋光布對(duì)工作溫度也有一定的要求。

    研磨拋光機(jī)的合理使用離不開上述三種基本輔助材料。它對(duì)拋光的質(zhì)量和拋光機(jī)的使用壽命有非常重要的影響。

    拋光布輪，主要是用布做成輪式用來(lái)拋光，是拋光機(jī)器常用的耗材之一，主要應(yīng)用于打磨的最后工序拋光，也叫鏡面處理，拋光布具有很好的柔軟性和輕微的磨削力。拋光布的拋光主要目的在于去除研磨引入的表面損傷，獲得便于纖維觀測(cè)的光亮面。根據(jù)不同試樣材料及拋光工序，不同材質(zhì)的拋光布應(yīng)用領(lǐng)域也存在差異。

    根據(jù)拋光布背部狀態(tài)，分為三大類：

    1.自粘性襯背拋光布（帶背膠）：帶粘性背面，可黏貼于磨盤、轉(zhuǎn)化盤或磁性盤上，便于更換。

    2.非粘性拋光布（不帶背膠）：非粘性背面，配套壓圈固定使用。

    3.磁性襯背拋光布：又名磁性拋光盤，金屬背面，直接牢固磁吸于工作臺(tái)，大大方便拋光布的定位、拆除，存儲(chǔ)。

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