介紹：

靈活的探測(cè)，4步工作流程，高級(jí)的分析性能。

將高級(jí)的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。

 

用于清晰成像的靈活探測(cè)

• 利用先進(jìn)探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。

• 利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。

• 利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。

自動(dòng)化加速工作流程

• 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。

• 首先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。

• 接下來(lái)對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結(jié)果可視化。

高級(jí)分析型顯微鏡

• 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 一流的背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束敏感的樣品。

• 在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。

• 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無(wú)陰影的分析結(jié)果。

基于成熟的 Gemini 技術(shù)

● Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

● Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過(guò)二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。

● Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測(cè)器尺寸和高的信噪

 

 

用于清晰成像的靈活探測(cè)

● 利用新的探測(cè)技術(shù)表征所有的樣品。

● 在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測(cè)器獲取形貌和高分辨率的信息。

● 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測(cè)器獲取銳利的圖像。

● 利用 aSTEM 探測(cè)器生成高分率透射圖像。

● 利用 BSD4 或者 YAG 探測(cè)器進(jìn)行成份分

 

蔡司Atlas 5-挑戰(zhàn)多尺度分析

Atlas 5可以簡(jiǎn)化您的工作：以樣本為中心的關(guān)聯(lián)環(huán)境下為您創(chuàng)建多尺度、多模式的綜合圖片。Atlas 5集強(qiáng)大的硬件和易于操作的軟件為一體，大大拓展了蔡司掃描電鏡（SEM）的應(yīng)用范圍。

可視化及分析軟件

蔡司推薦您使用Object Research Systems (ORS) 的 Dragonfly Pro

此解決方案可為X射線，F(xiàn)IB-SEM，SEM以及氦離子顯微鏡獲取的三維數(shù)據(jù)進(jìn)行可視化三維重構(gòu)和分析。

基于Visual SI Advanced系列, Dragonfly Pro 能提供高清解析度可視化技術(shù)和優(yōu)異的圖形處理技術(shù)。Dragonfly Pro支持通過(guò)簡(jiǎn)單易用的Python腳本進(jìn)行定制。用戶可以完全掌控3D數(shù)據(jù)后期處理環(huán)境和流程

 

蔡司Sigma 300 可提供

 

集成式 EDS 解決方案

在低能量分析應(yīng)用中同時(shí)實(shí)現(xiàn)高清晰度成像

Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺(tái)計(jì)算機(jī)來(lái)控制 EDS 和 SEM，進(jìn)而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時(shí)，借助專門(mén)為顯微鏡和 EDS 操作設(shè)計(jì)的用戶界面可實(shí)現(xiàn)并行控制。
• 集成化：通過(guò)集成化，結(jié)合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯(cuò)結(jié)果
• 定制化：根據(jù)不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度：獨(dú)特的氮化硅窗口增強(qiáng)低能X射線的探測(cè)靈敏度
 

拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)

完全集成化的拉曼成像

獲取樣品中化學(xué)結(jié)構(gòu)的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴(kuò)展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結(jié)構(gòu)和結(jié)晶信息。 通過(guò)拉曼成像與EDS數(shù)據(jù)可進(jìn)行3D 分析并與SEM圖像關(guān)聯(lián)。完全集成化的拉曼成像掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)使你充分發(fā)揮SEM和拉曼系統(tǒng)的功能。